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一种设计版图、掩膜版及测量方法，测量方法包括：获取掩膜版，包括设计光掩膜图形，所述设计光掩膜图形具有关键尺寸方向，所述掩膜版还包括沿所述关键尺寸方向设置于所述设计光掩膜图形两侧的参考光掩膜图形；通过定位所述参考光掩模图形以确定所述设计光掩模...
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