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本发明公开了一种掩膜版多角度图像的关键尺寸优化方法，首选利用带胶测试版，设计19组不同角度的斜缝，各角度的角度斜缝CD记为CD<subgt;i°</subgt;，然后以0°斜缝CD为基准，统计剩余18组角度斜缝CD与0°斜缝CD...
该专利属于合肥清溢光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥清溢光电有限公司授权不得商用。

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