下载磷化铟晶片清洗方法及半导体晶片清洗装置的技术资料

文档序号:40148791

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本申请提供了一种磷化铟晶片清洗方法及半导体晶片清洗装置。该方法包括:通入惰性气体,并以第一兆声波频率喷淋去离子水对晶片进行兆声波清洗;喷淋弱碱性清洗液清洗晶片;通入惰性气体,并以第二兆声波频率喷淋去离子水对晶片进行兆声波清洗;第二兆声波频率...
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