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一种衬底处理装置，包括：处理室，包括等离子体生成区、气体混合区和衬底处理区；第一气体供应管线，向等离子体生成区供应第一处理气体；第二气体供应管线，向气体混合区供应第二处理气体；离子阻挡器，设置在等离子体生成区和气体混合区之间；以及喷头，设置...
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