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本发明涉及半导体领域，本发明公开了基于模型预测控制的磷化铟晶片智能清洗过程控制方法，包括：基于污染信息将待清洗晶片划分入N个待清洗晶片批次中；根据污染物集合与清洗液成分配比的预设关系，确定清洗液成分配比；获取晶片尺寸规格，基于晶片尺寸规格、...
该专利属于青岛立昂晶电半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过青岛立昂晶电半导体科技有限公司授权不得商用。

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