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本发明公开了一种金属化学气相沉积装置，金属化学气相沉积装置包括若干个MOVCD反应模组，若干个MOVCD反应模组呈线性阵列设置；反应壳体设置在基座的顶端，反应壳体与基座围合成一反应腔，反应壳体的相对两侧分别设置有进气口和出气口，以用于供待反...
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