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本发明公开了一种选择性蚀刻液，其主要成分包括磷酸、氟离子源、含羟基有机物、抑制剂和水组成。选择性蚀刻液中的含羟基有机物的结构中含有三氟甲基或硝基的强吸电子基团，有助于提高羟基与氧化硅层表面硅羟基键以及氧化铝层表面铝羟基键进行结合，以降低氧化...
该专利属于湖北兴福电子材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖北兴福电子材料股份有限公司授权不得商用。

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