温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种半导体结构的形成方法，包括：提供基底，基底的表面具有亲水基团；对基底的表面进行改性处理，使基底表面的部分亲水基团转变为疏水基团；对改性处理后的所述基底表面进行增粘处理，在基底表面生成增粘物质；在增粘处理后的所述基底上形成光刻胶层。通过在...
该专利属于中芯国际集成电路制造（天津）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（天津）有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。