温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开一种外延片、外延片制作方法及色转换结构制作方法，外延片包括生长衬底以及生长在生长衬底上的外延层，外延层设置为，外延层靠近生长衬底的一侧的载流子浓度较远离生长衬底的一侧的载流子浓度低，采用电化学腐蚀法腐蚀外延层时，当电极搭在外延层远...
该专利属于东莞市中镓半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东莞市中镓半导体科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。