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一种去除微纳结构中溶剂的方法，步骤为：（１）在基片上制作微纳结构，利用旋涂工艺在基片上旋涂光刻胶，然后采用光刻工艺在基片材料上得到所需高度的光刻胶结构，也可利用刻蚀工艺将光刻胶结构再转移到基片上，获得所需高度的基片材料微纳结构；（２）将完成...
该专利属于中国科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学技术大学授权不得商用。

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