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本发明的课题在于提供一种具有耐紫外线性更高的表面处理层的叠层体。其解决手段为一种叠层体，其为具有基材、配置于基材上的基底层、和配置于基底层上的表面处理层的叠层体，其中，上述基底层为由(A)下述式(P)所示的聚硅氮烷或(B)下述式(Q)所示的...
该专利属于大金工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过大金工业株式会社授权不得商用。

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