叠层体制造技术

技术编号:40091562 阅读:27 留言:0更新日期:2024-01-23 16:17
本发明专利技术的课题在于提供一种具有耐紫外线性更高的表面处理层的叠层体。其解决手段为一种叠层体,其为具有基材、配置于基材上的基底层、和配置于基底层上的表面处理层的叠层体,其中,上述基底层为由(A)下述式(P)所示的聚硅氮烷或(B)下述式(Q)所示的氨基硅烷形成的层,上述表面处理层为由含氟硅烷化合物形成的层。;N(R71‑SiR723)mR733‑m (Q)。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及叠层体


技术介绍

1、已知某些种类的含氟硅烷化合物在用于基材的表面处理时,能够提供优异的拨水性、拨油性、防污性等。由含有含氟硅烷化合物的表面处理剂得到的层(以下也称为“表面处理层”)作为所谓的功能性薄膜被施用于例如玻璃、塑料、纤维、卫生用品、建筑材料等各种各样的基材(专利文献1)。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1:国际公开第2018/056413号


技术实现思路

1、专利技术所要解决的技术问题

2、专利文献1所记载的含氟硅烷化合物能够提供具有优异功能的表面处理层,但仍寻求具有更高的耐紫外线性的表面处理层。

3、本专利技术的目的在于提供一种具有耐紫外线性更高的表面处理层的叠层体。

4、用于解决技术问题的技术方案

5、本专利技术包括以下方式。

6、[1]一种叠层体,其为具有基材、配置于基材上的基底层、和配置于基底层上的表面处理层的叠层体,

7、上述基底层为由(a)下述式(p)本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种叠层体,其特征在于:

2.如权利要求1所述的叠层体,其特征在于:

3.如权利要求2所述的叠层体,其特征在于:

4.如权利要求2或3所述的叠层体,其特征在于:

5.如权利要求2~4中任一项所述的叠层体,其特征在于:

6.如权利要求5所述的叠层体,其特征在于:

7.如权利要求2~6中任一项所述的叠层体,其特征在于:

8.如权利要求2~7中任一项所述的叠层体,其特征在于:

9.如权利要求2~8中任一项所述的叠层体,其特征在于:

10.如权利要求2~9中任一项所述的叠层体,其特征在...

【技术特征摘要】

1.一种叠层体,其特征在于:

2.如权利要求1所述的叠层体,其特征在于:

3.如权利要求2所述的叠层体,其特征在于:

4.如权利要求2或3所述的叠层体,其特征在于:

5.如权利要求2~4中任一项所述的叠层体,其特征在于:

6.如权利要求5所述的叠层体,其特征在于:

7.如权利要求2~6中任一项所述的叠层体,其特征在于:

8.如权利要求2~7中任一项所述的叠层体,其特征在于:

9.如权利要求2~8中任一项所述的叠层体,其特征在于:

10...

【专利技术属性】
技术研发人员:马轶沈浩石井大贵能势雅聪阪本英司
申请(专利权)人:大金工业株式会社
类型:发明
国别省市:

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