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一种半导体结构的形成方法，方法包括：提供基底，所述基底包括密集区和稀疏区，所述基底包括用于形成目标图形的目标层，密集区和稀疏区的目标层上形成有凸立的第一核心层；在所述第一核心层的侧壁形成第一掩膜侧墙；在所述第一掩膜侧墙的侧壁形成保护层；形成...
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