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本发明公开了一种承载头和化学机械抛光系统，所述承载头包括：枢轴座；承载盘，活动连接于枢轴座下方；弹性膜，设置于承载盘下方，用于装载待抛光晶圆；保持环，固定于承载盘下方并位于弹性膜的外周侧；平衡组件，包括枢轴和平衡架，所述枢轴滑动连接于枢轴座...
该专利属于华海清科股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华海清科股份有限公司授权不得商用。

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