温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明一种小基片衬底的双面对准方法，涉及光刻领域。对准方法包括如下步骤，1)在晶圆衬底上绘制多个坐标系对准标记并记录于集合S，2)继续绘制多个正面切割标记并记录于集合T，3)在小基片衬底上绘制多个小基片正面对准标记并记录于集合P，4)翻转晶...
该专利属于上海科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海科技大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。