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一种柔性图案化电子器件的制造方法技术
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文档序号:40074115
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本发明公开了一种柔性图案化电子器件的制造方法、终端及存储介质,方法包括:获取硅片,在所述硅片上沉积牺牲层以及功能层薄膜;通过光刻技术在所述硅片上制造功能层图案以及电极图案,并通过蒸镀技术在所述硅片上沉积电极层;在所述硅片表面旋涂液态PDMS...
该专利属于深圳大学所有,仅供学习研究参考,未经过深圳大学授权不得商用。
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