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本申请提供一种监测研磨机台漏光的方法，包括：提供一衬底；在衬底上形成半导体结构，半导体结构中形成有PN结导通回路、第一导电插塞和第二导电插塞；形成金属层；利用研磨机台对半导体结构表面的金属层进行研磨；获取半导体结构表面缺陷图；通过缺陷图监控...
该专利属于华虹半导体（无锡）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华虹半导体（无锡）有限公司授权不得商用。

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