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本申请实施例提供一种掩膜版清洗方法，包括：获取清洗掩膜版的清洗制程，所述清洗制程包括各个清洗试剂的清洗顺序、清洗温度和单次清洗时间，所述清洗顺序能够使相邻各所述清洗试剂的清洗温度的温度差满足温度差阈值，所述清洗温度的交替次数满足次数阈值，所...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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