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半导体器件终端结构、制备方法及半导体器件技术
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文档序号:40056680
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本发明涉及一种半导体器件终端结构、制备方法及半导体器件,该终端结构包括:漏极电极,位于漏极电极上的衬底,位于衬底上的外延层,位于外延层上的金属场板和钝化层;外延层远离衬底一侧的两端还分别设置有主结区和截止环,主结区和截止环之间的外延层内沿外...
该专利属于比亚迪半导体股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过比亚迪半导体股份有限公司授权不得商用。
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