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本发明提供一种退火均匀性的监控方法，方法包括：首先，提供多个晶圆，在每一晶圆上形成多个外延发光层，其次，在每一晶圆中对应的每一外延发光层上形成P型接触组件，并对P型接触组件进行退火处理，再次，在每一晶圆中的每一P型接触组件及N型半导体层上均...
该专利属于武汉优炜芯科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉优炜芯科技有限公司授权不得商用。

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