温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供在用于制作多层印刷电路板时在曝光工序中不妨碍光固化反应，对各种活性能量射线、尤其是对包含波长405nm的h射线的活性能量射线具有优异的光固化性，且在显影工序中能够赋予优异的碱显影性的树脂组合物、树脂片、多层印刷电路板及半导体装置。...
该专利属于三菱瓦斯化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三菱瓦斯化学株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。