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本发明涉及集成电路制造领域，特别涉及一种掩模图形优化提取方法、装置及计算机设备。本发明提供的方法包括以下步骤：获取设计图形的轮廓边信息；基于轮廓边信息获取预打断位置，并基于预打断位置对轮廓边进行第一次打断以获得若干第一线段；对第一线段进行第...
该专利属于深圳晶源信息技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳晶源信息技术有限公司授权不得商用。

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