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一种厚层光刻胶的涂布烘烤方法技术
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文档序号:40044272
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本发明公开了一种厚层光刻胶的涂布烘烤方法,步骤包括涂布第一光刻胶,形成第一光刻胶层,第一光刻胶的光刻胶原液与稀释剂的体积比为第一稀释比例R<subgt;1</subgt;;烘烤第一光刻胶层,采用阶梯升温方式对第一光刻胶层进行烘烤...
该专利属于湖南普照信息材料有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过湖南普照信息材料有限公司授权不得商用。
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