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本技术公开了一种真空系统及镀膜设备，真空系统用于实现多个反应腔室的真空度调整，该真空系统包括真空泵、控制阀组和检修阀，控制阀组为并联设置的多个，多个控制阀组与多个反应腔室一一对应设置，且用于实现真空泵与多个反应腔室的连通与隔断，检修阀与真空...
该专利属于拉普拉斯新能源科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拉普拉斯新能源科技股份有限公司授权不得商用。

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