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本发明涉及一种大粒径晶圆片用高纯单质改性硅溶胶抛光液及其制备方法，所述抛光液包括以下重量份的原料：12—15份硅溶胶，3—5份碱性调节剂，1—2份山梨坦单硬脂酸酯，1—2份有机络合清洗剂，2—3份螯合剂，3—5份十二烷基硫酸钠，2—3份甲基...
该专利属于湖北工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过湖北工业大学授权不得商用。

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