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本技术公开了一种用于双spoke超导腔缓冲化学抛光装置，其特征在于，包括束管通酸管，束管通酸管上设有若干酸液出口，下端设有密封法兰，下端端口为酸液输入端口，密封法兰与下端端口之间设有与下端端口互通的第一输入端口、第二输入端口；束管通酸管用于...
该专利属于中国科学院高能物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院高能物理研究所授权不得商用。

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