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本申请提供一种真空传送模块及一种机台设备，涉及半导体技术领域。所述真空传送模块包括真空腔体，所述真空腔体的底壁上设有通气孔，所述真空传送模块包括挡流部件，所述挡流部件包括遮挡部和气流通道，所述遮挡部位于所述通气孔上方，且所述遮挡部在所述真空...
该专利属于武汉楚兴技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉楚兴技术有限公司授权不得商用。

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