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本发明提供一种碳化硅晶圆电解装置及电化学机械抛光系统，属于晶圆电解技术领域，其中碳化硅晶圆电解装置包括电解槽和电极板组，电解槽具有至少一个电解室，所述电解室内部用于放置电解液和待处理晶圆；电极板组设置于所述电解室中，所述电极板组包括第一导电...
该专利属于北京晶亦精微科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京晶亦精微科技股份有限公司授权不得商用。

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