温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及一种GaN基发光芯片外延层、发光芯片及其制作方法。该GaN基发光芯片外延层包括有源层,有源层包括沿生长方向依次生长的应变层、前量子阱垒层和量子阱垒层;应变层包括至少两个沿所述生长方向依次生长的第一量子阱垒,前量子阱垒层包括至少两个...该专利属于重庆康佳光电技术研究院有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过重庆康佳光电技术研究院有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及一种GaN基发光芯片外延层、发光芯片及其制作方法。该GaN基发光芯片外延层包括有源层,有源层包括沿生长方向依次生长的应变层、前量子阱垒层和量子阱垒层;应变层包括至少两个沿所述生长方向依次生长的第一量子阱垒,前量子阱垒层包括至少两个...