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本发明提供了一种薄膜沉积装置、方法及存储介质。所述薄膜沉积装置包括：至少一个工艺腔室，其中配置有承载晶圆以进行薄膜沉积工艺的晶圆托盘；以及旋转机构，连接所述至少一个工艺腔室中的晶圆托盘，以经由所述晶圆托盘带动其承载的晶圆在对应的工艺腔室中旋...
该专利属于拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司授权不得商用。

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