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本发明公开一种抑制电压过冲的埋沟U槽SiC VDMOSFET结构,包括碳化硅外延层,碳化硅外延层顶部具有P阱和N阱基本注入形貌,N阱具有P+2,P阱、N阱及P+2上贯穿形成埋沟式U槽,使得SiC VDMOSFET结构中形成具有栅源之间纵向的...该专利属于杭州谱析光晶半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过杭州谱析光晶半导体科技有限公司授权不得商用。
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