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本发明提供了一种等离子体反应室和微波等离子体化学气相沉积装置。等离子体反应室包括真空腔室，真空腔室中包括从外部伸入腔体的基台结构，真空腔室的顶部在基台结构上方位置设有微波窗，用于供微波进入真空腔室，激发反应区域中的反应气体；真空腔室包括第一...
该专利属于上海征世科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海征世科技股份有限公司授权不得商用。

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