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本发明提供一种改善光阻减量导致涂布不均的方法，在晶圆承载台上放置晶圆；利用喷嘴向晶圆中心表面喷涂光刻胶；驱动晶圆承载台带动晶圆转动，转速为第一转速，使得光刻胶摊开至靠近晶圆的边缘处；利用喷嘴向晶圆中心表面喷涂光刻胶；驱动晶圆承载台带动晶圆转...
该专利属于华虹半导体（无锡）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华虹半导体（无锡）有限公司授权不得商用。

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