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本发明公开了一种原子层沉积设备，包括：盖体具有反应腔；承载台设置于反应腔中，承载台用于放置基片且承载台能够转动；反应腔包括多个反应区域，反应区域设置有进气部，且相邻的两个反应区域之间设置有气体隔离部，进气部包括第一进气口，气体隔离部包括第一...
该专利属于深圳市原速光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市原速光电科技有限公司授权不得商用。

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