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一种能够防止损坏反应器和下膜的衬底处理方法，包括：供应具有图案结构的衬底；在图案结构上形成层；通过在衬底上施加等离子体来产生活性物质；以及通过在层上执行各向同性蚀刻来选择性地蚀刻由活性物质产生的图案结构上的层，其中施加等离子体包括：增加活性...
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