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本发明公开了一种4H‑SiC COMS紫外反相器,该反相器包括n型4H‑SiC外延层,其左侧注入有P离子,以形成p阱区,同时在右侧形成n阱区;栅氧层,位于外延层的下方,并向两侧延伸至部分p阱区和部分n阱区下面;n型源极和p型源,分别位于n阱...该专利属于芜湖西晶微电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过芜湖西晶微电子科技有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种4H‑SiC COMS紫外反相器,该反相器包括n型4H‑SiC外延层,其左侧注入有P离子,以形成p阱区,同时在右侧形成n阱区;栅氧层,位于外延层的下方,并向两侧延伸至部分p阱区和部分n阱区下面;n型源极和p型源,分别位于n阱...