下载一种连续线磁控溅射设备的技术资料

文档序号:39978314

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本发明涉及一种连续线磁控溅射设备,包括设备本体和立式托盘,所述立式托盘竖直固定基板,设备本体包括呈竖直细缝结构的腔体、控制立式托盘穿过腔体的传送单元,立式托盘包括框架和行走部,行走部包括位于两侧的多对行走轮以及排布于底部的若干磁板,传送单元...
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