一种连续线磁控溅射设备制造技术

本发明专利技术涉及一种连续线磁控溅射设备，包括设备本体和立式托盘，所述立式托盘竖直固定基板，设备本体包括呈竖直细缝结构的腔体、控制立式托盘穿过腔体的传送单元，立式托盘包括框架和行走部，行走部包括位于两侧的多对行走轮以及排布于底部的若干磁板，传送单元包括一对穿过腔体下部的无缝滑轨、在两个无缝滑轨之间沿输送方向设置的若干线圈和将线圈与所述腔体隔开的透磁盒体，透磁盒体中穿过设置有为线圈降温的冷却单元。立式托盘在重力和磁力的共同作用下会牢牢贴在无缝滑轨上，立式托盘在移动的时候就不会有剧烈的上下抖动，确保了溅镀质量；提供立式托盘的移动动力的是电磁感应产生的电磁感应力，不用担心打滑问题，有利于提升溅镀的加工效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真空溅镀，特别涉及一种连续线磁控溅射设备。

技术介绍

1、真空磁控溅镀设备一般由真空系统、传送系统、加热系统、阴极等部分组成；溅射镀膜的核心在于连续稳定的制备均匀的所需膜层，目前的基板和设备尺寸随着终端需求变化，尺寸也越来越大，从而对传输系统的要求越来越高；传输系统的速率会影响设备生产节拍，传输过程中的震动及稳定性会影响膜层的均匀性。

2、中国专利cn201990723u公开了一种立式真空镀膜机的基板传输机构装置，这里采用无滚轮的玻璃载具放置基板，然后竖直通过立式真空镀膜机，利用溅射源对基板的一面进行溅镀。玻璃载具的移动是通过并排设置的多个输送轮实现的。在这种输送方式下会存在如下问题：

3、1、所有输送轮很难保证高度一致，就算一开始固定的精度很高，但是输送轮在负重前后高度多少会有起伏，所以玻璃载具在每次接触下一个输送轮的时候很容易发生颠簸，对于溅镀来说颠簸会使镀膜变得不均匀，产生质量问题。

4、2、玻璃载具的向前移动的动力是输送轮对玻璃载具的摩擦力。玻璃载具和基板的质量越重，惯性影响越明显。输送速度就不能随本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种连续线磁控溅射设备，用来立式输送并溅镀基板，包括设备本体和立式托盘，所述立式托盘竖直固定基板，所述设备本体包括呈竖直细缝结构的腔体、位于所述腔体下部且控制所述立式托盘穿过腔体的传送单元、为所述腔体抽真空的真空单元、分设于所述腔体两侧的加热单元和阴极，其特征在于：所述传送单元包括一对穿过所述腔体下部的无缝滑轨、在两个无缝滑轨之间沿输送方向设置的若干线圈和将所述线圈与所述腔体隔开的透磁盒体，所述立式托盘包括框架和位于所述框架底部的行走部，所述行走部包括条形的支撑底座、位于所述支撑底座两侧的多对行走轮以及直线排布于所述支撑底座底部的若干磁板，所述磁板与所述线圈位置相对，所述透磁盒体中穿...

【技术特征摘要】

1.一种连续线磁控溅射设备，用来立式输送并溅镀基板，包括设备本体和立式托盘，所述立式托盘竖直固定基板，所述设备本体包括呈竖直细缝结构的腔体、位于所述腔体下部且控制所述立式托盘穿过腔体的传送单元、为所述腔体抽真空的真空单元、分设于所述腔体两侧的加热单元和阴极，其特征在于：所述传送单元包括一对穿过所述腔体下部的无缝滑轨、在两个无缝滑轨之间沿输送方向设置的若干线圈和将所述线圈与所述腔体隔开的透磁盒体，所述立式托盘包括框架和位于所述框架底部的行走部，所述行走部包括条形的支撑底座、位于所述支撑底座两侧的多对行走轮以及直线排布于所述支撑底座底部的若干磁板，所述磁板与所述线圈位置相对，所述透磁盒体中穿过设置有为所述线圈降温的冷却单元，所述行走轮在所述无缝滑轨上行走。

2.根据权利要求1所述的连续线磁控溅射设备，其特征在于：所述行走轮的内侧设有抵住所述无缝滑轨一侧的凸缘。

3.根据权利要求1所述的连续线磁控溅射设备，其特征在于：所述无缝...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨本伟，周文彬，杨星，李伟，
申请(专利权)人：苏州晟成光伏设备有限公司，
类型：发明
国别省市：