温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种线性图像传感器及制作方法和光刻掩膜版，该制作方法包括：提供半导体基底以及第一掩膜版，以第一掩膜版为遮挡对半导体基底进行第一次曝光，第一次曝光的区域对应为第一区域；将半导体基底在第一预设方向上相对第一掩膜版移动第一预设距离；提...
该专利属于思特威（上海）电子科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过思特威（上海）电子科技股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。