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本技术涉及一种适用小型导磁材料的磁控溅射工艺的设备。在使用了导磁材料的靶材，会严重降低靶材表面的磁场，使得表面的磁场强度达不到启辉最低磁场的要求，导致无法正常工作。本技术包括护罩，其特征在于所述护罩内在上部中心设置靶材，所述靶材的下部设置铜...
该专利属于晓睿真空设备（嘉兴）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过晓睿真空设备（嘉兴）有限公司授权不得商用。

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