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本发明公开了一种用于高真空半导体的金属介质镀膜机及操作方法，包括镀膜机、升降机构和旋转机构，升降机构由滚珠丝杠和升降驱动电机组成，旋转机构由旋转电机和旋转轴组成，镀膜机由工件盘和蒸发室组成，工件盘设置在蒸发室的内部，蒸发室的顶部设有支撑架，...
该专利属于成都中科唯实仪器有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都中科唯实仪器有限责任公司授权不得商用。

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