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本发明涉及光电子器件制造技术领域,具体涉及一种晶片切割装置、划膜测高方法及切割方法,所述晶片切割装置包括工作台、切割主轴、刀具和高度测量机构,所述刀具连接在切割主轴的端部,所述工作台上设置有薄膜,所述薄膜用于支撑待切割晶片,所述切割主轴用于...该专利属于北京中电科电子装备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京中电科电子装备有限公司授权不得商用。
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