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本发明提供一种等离子体处理装置，其易于形成等离子体电位低且更加稳定的高密度的等离子体，并且能够更加简单且准确地控制等离子体处理的均匀性。该等离子体处理装置包括：在处理室（１０２）内载置晶片的载置台（１１０）；以与载置台相对的方式隔着板状电介...
该专利属于东京毅力科创株式会社;株式会社明甲所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社;株式会社明甲授权不得商用。

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