下载一种磁控溅射设备的技术资料

文档序号:39906482

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本实用新型公开了一种磁控溅射设备;包括溅射组件和偏压组件;溅射组件设置有两个,两个溅射组件相对设置,两个溅射组件的一侧设置偏压组件;溅射组件连接负极电源,偏压组件连接正极电源,偏压组件用于将溅射组件产生的溅射离子排斥到基材上
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