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一种半导体工艺设备的尾气处理系统技术方案
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文档序号:39876674
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本实用新型公开了一种半导体工艺设备的尾气处理系统,包括第一工艺机,还包括第一等离子清洗室和第一燃烧清洗室,通过在第一干管上设置第一气体检测装置,能够区分第一尾气和第二尾气,第一尾气包含有毒气体和
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该专利属于通威太阳能(眉山)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过通威太阳能(眉山)有限公司授权不得商用。
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