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本发明构思提供了缓冲腔室、基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置包括：批量式处理浴，该批量式处理浴用于以批量式方式处理基板；单一式处理腔室，该单一式处理腔室用于以单一式方式处理该基板；以及缓冲腔室，该缓冲腔室定位在在该批量式处理腔室与该...
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