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本公开涉及一种蚀刻气体组合物、一种基底处理设备和一种图案形成方法。所述蚀刻气体组合物包括至少两种C3或C4有机氟化合物、以及氟化钽，并且所述至少两种C3或C4有机氟化合物是同分异构体。同分异构体。同分异构体。
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