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用于薄膜沉积的掩模框架组件及相关方法技术
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文档序号:3983885
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本发明提供了一种用于薄膜沉积的掩模框架组件,所述组件包括:框架,包括开口部分和支撑部分;掩模,具有在与所述开口部分对应的位置处的沉积区,其中,所述掩模包括第一层和第二层,所述第一层包括所述沉积区和设置在所述沉积区外部的外围部分,所述第二层包...
该专利属于三星移动显示器株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星移动显示器株式会社授权不得商用。
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