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本发明提供了一种中子源锂靶制备系统及方法，该中子源锂靶制备系统包括：第一箱体，配置于第一箱体内的蒸镀装置，形成于第一箱体外侧并连接第一箱体的磁控溅射装置，以及用于向第一箱体
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该专利属于华硼中子科技（杭州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华硼中子科技（杭州）有限公司授权不得商用。

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