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本公开提供能提高耐湿性的半导体装置、单片微波集成电路、半导体封装件以及半导体装置的制造方法。半导体装置具有:半导体基板;半导体元件,形成于半导体基板之上;第一绝缘膜,覆盖半导体元件;第二绝缘膜,形成于第一绝缘膜之上;以及第三绝缘膜,形成于第...该专利属于住友电工光电子器件创新株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过住友电工光电子器件创新株式会社授权不得商用。
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本公开提供能提高耐湿性的半导体装置、单片微波集成电路、半导体封装件以及半导体装置的制造方法。半导体装置具有:半导体基板;半导体元件,形成于半导体基板之上;第一绝缘膜,覆盖半导体元件;第二绝缘膜,形成于第一绝缘膜之上;以及第三绝缘膜,形成于第...